金属打磨抛光技术要求及注意事项

小型金属双端面抛光机械应用范围较为广泛的，包括的行业也是很多，可跨行业抛光或研磨工件端面，小型金属端面抛光机械设备主要用于硅片、蓝宝石晶体、陶瓷片、光学玻璃、石英晶体、手机屏幕玻璃、其它半导体材料等非金属和金属的硬脆性材料薄片精密零件的上、下两平行端面的同时研磨和抛光。

双面金属端面抛光机械用于阀板、阀片、磁性材料、刚性密封圈、异形件、气缸活塞环、油泵叶片等金属零件，以及硅、铜件、锗、不锈钢、铸铁、轴承套圈、粉末冶金、硬质合金、蓝宝石、砷化碳、铁氧体、铌酸锂等零件的双面研磨和抛光。

金属打磨抛光技术

　　1.机械抛光

机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。

　　2. 化学抛光 

化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。

　　3. 电解抛光 

电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步：(1)宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra>1μm。(2)微光平整 阳极极化，表面光亮度提高，Ra

返回首页   打印   返回上页   下一篇